SETO 1.67 fotochromická čočka SHMC

1) Co je to rotační povlak?

Spin Povlak je postup používaný k ukládání jednotných tenkých filmů na ploché substráty. Na střed substrátu se obvykle aplikuje malé množství povlakového materiálu, který se buď točí při nízké rychlosti nebo se točí. Substrát se poté otáčí rychlostí až do 10 000 ot / min, aby se rozprostřel potahovací materiál odstředivou silou. Stroj používaný pro rotační povlak se nazývá rotační nádrž nebo jednoduše spinner.
Rotace pokračuje, zatímco tekutina se točí z okrajů substrátu, dokud není dosažena požadovaná tloušťka filmu. Aplikované rozpouštědlo je obvykle těkavé a současně se odpařuje. Čím vyšší je úhlová rychlost točení, tím tenčí film. Tloušťka filmu také závisí na viskozitě a koncentraci roztoku a rozpouštědle. Emslie et al., Provedla se teoretická analýza rotačního povlaku průkopnického a rozšířena mnoho následných autorů (včetně Wilsona et al. Univerzální popis pro predikci uložené tloušťky filmu).
Spin Povlak se široce používá při mikrofabrikaci funkčních oxidových vrstev na skleněných nebo jednokrystalových substrátech pomocí prekurzorů Sol-Gel, kde může být použit k vytvoření jednotných tenkých filmů s tloušťkou nanočástic. [6] Používá se intenzivně ve fotolitografii, k ukládání vrstev fotorezistu asi 1 mikrometry tlustý. Fotorezist se obvykle otočí při 20 až 80 revolucích za sekundu po dobu 30 až 60 sekund. Je také široce používán pro výrobu rovinných fotonických struktur vyrobených z polymerů.
Jednou z výhod roztočení tenkých filmů je uniformita tloušťky filmu. Vzhledem k sebelevolingu se tloušťky nemění více než 1%. Špičkové filmy polymerů a fotorezistů však mohou mít za následek relativně velké okrajové kuličky, jejichž planarizace má fyzické limity.